SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography (2025) 참석
- cpcl32903829
- 9월 29일
- 1분 분량
2025년 9월 22일부터 9월 25일까지 미국 몬테레이에서 개최된 SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography (2025)에 최웅 학생이 참석하였습니다.
[발표 주제]
최웅: Photo-Assisted Wet Cleaning of Tin Contaminants on High-NA EUV Masks (구두 발표)
